Tipiski ķīmisko vakuuma sistēmu pielietojumi ietver ķīmiski agresīvu gāzu un tvaiku atsūknēšanu no tādām iekārtām kā rotācijas ietvaicētāji, vakuuma žāvēšanas krāsnis un centrbēdzes koncentrāti. VACUUBRAND ķīmisko vakuuma sistēmu konstrukcija ar fluorpolimēra materiāliem padara tās ļoti noturīgas pret ķīmiskiem tvaikiem, sākot no ieplūdes līdz izplūdei, un ļoti izturīgas pret kondensātiem. VACUUBRAND sistēmām ir gāzes balasta vārsts, kas nodrošina nepārtrauktu sūkņa iztīrīšanu, strādājot ar kondensējamiem tvaikiem, ar minimālu ietekmi uz galīgo vakuumu. Sūknēšanas kameras ir hermētiski atdalītas no piedziņas sistēmas, nodrošinot mehānisko detaļu ilgu kalpošanas laiku.

• PTFE materiāla membrānas un vārsti, kas izgatavoti no perfluoroelastomēra vai PTFE materiāla.
• Iekšējās caurules un savienojumi ir izgatavoti no PTFE / ETFE / ECTFE materiāliem.
• Ilglaicīgs membrānu kalpošanas laiks ar īpaši izturīgu PTFE dizainu.
• Membrānu pārsegs un iespīlēšanas disks, kas izgatavoti no fluora savienojumiem nodrošina ilgtermiņa darbību.
• Sūkņiem ir ļoti gari apkopes intervāli, kas nodrošina zemas kalpošanas izmaksas.
• Patentēta jauna piedziņas sistēma īpaši klusai, īpaši zemu vibrāciju darbībai (NT).
• Patentēta jauna vārstu montāžas sistēma atvieglo apkopes pieejamību (NT).
• Gludas virsmas ērtai tīrīšanai (NT).
• Ieejas atdalītājs (AK) ir izgatavots no stikla ar aizsargājošu pārklājumu, un tas uztver daļiņas un šķidruma pilienus.
• Izejas atdalītājs savāc kondensātu, novērš kondensāta atpakaļplūsmu sūkņa virzienā un padara sūkņa darbību klusu.

Līdz 70 mbar

Līdz 7 mbar

Līdz 1.5 mbar

Līdz 0.6 mbar